簡要描述：晶圓缺陷光學檢測設備是由高精度光學檢測顯微鏡搭載全自動晶圓搬運系統組成，支持4-12寸的晶圓尺寸，可輕松實現多角度、全視野的宏觀檢查、以及晶圓微觀細節的高清捕捉，可對半導體過程工藝中的關鍵參數、缺陷問題進行有效監控，是晶圓來料檢測和工藝控制流程缺陷分析的高效利器。

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　　晶圓缺陷光學檢測設備是由高精度光學檢測顯微鏡搭載全自動晶圓搬運系統組成，支持4-12寸的晶圓尺寸，可輕松實現多角度、全視野的宏觀檢查、以及晶圓微觀細節的高清捕捉，可對半導體過程工藝中的關鍵參數、缺陷問題進行有效監控，是晶圓來料檢測和工藝控制流程缺陷分析的高效利器。

　　晶圓缺陷光學檢測設備兼具穩定性和安全性，能夠安全可靠的傳送晶圓，適合于前道到后道工程的晶圓檢查一個晶圓在經過一系列復雜工序后最終變成多個IC單元，期間晶圓需要依賴搬運機在處理站之間執行快速、精確的傳送作業。納米級厚度的晶圓很容易在傳送過程中損壞，而且還須確保在工序中晶圓表面不得有臟污、缺陷等。